半導體區熔

硅、鍺等半導體材料的區熔提純設備。

半導體區熔

適用范圍
硅、鍺等半導體材料的區熔提純設備。

技術特點
①采用真空區熔工藝,感應器通過變頻機構緩慢移動,速度可調節。
②固態高頻MOSFET電源,設備體積小;恒功率控制技術,工藝穩定。
③與原電子管高頻電源相比,節電率30%以上,并且工藝可控性好。
④低壓諧振,電磁輻射小,工作環境安全。
⑤采用PLC+HMI,可實現自動加熱控制,方便靈活。
?
?

典型圖例

鍺提純

?

鍺提純

鍺提純設備


??????????

 


e电竞比分网 粤广东十一选五走势 av女优成濑心美快播 sod 系列 番号 山东时时彩 广东南粤36选7走 大乐透最新消息开奖 麻将视频教程 欧美最好看的番号推荐 雪缘园体球网 超级大乐透基本走势图图表 免费好友打麻将软件 网络投资理财平台可靠吗 快乐10分开奖结果 足球比分推荐 下期大乐透几号开奖 雪缘棒球比分直播